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          微電子對潔凈技術提出新要求

          發布日期:2019-05-18  閱讀量:691

          電子產品,尤其是微電子產品生產依賴于潔凈技術的發展,或者說潔凈技術的發展是由微電子產品的更新換代推動發展起來的。


          電子產品潔凈廠房對空氣潔凈度和各類雜質的控制有嚴格的要求。半導體集成電路制造是一種高科技制造技術。它是利用高精密機器設備,將物理、化學、電子以及機械等技術融合應用于產品制造過程。為了獲得微電子產品的高質量和高成品率,必須嚴格控制芯片缺陷。而導致芯片缺陷的因素十分復雜,其污染源可能來自空氣中的粒子或加工過程中使用的各類工藝介質中的雜質、清洗用純水中的雜質以及工具等帶來的雜質污染等。生產環境控制就是對與產品生產過程相關的各類污染物進行控制。其中,對生產環境中微粒的控制是十分重要的內容。當前45nm的極大規模集成電路已投入生產,要求潔凈室的空氣潔凈度控制在ISO1級或ISO2級,微粒粒徑控制在0.03微米。隨著集成度的不斷提高、加工尺寸日益微細化,集成電路生產過程不僅對空氣潔凈度等級提出越來越高的要求,也對整個產品生產過程中微粒的黏附、化學污染物、芯片的損傷等問題提出越來越高的要求。近年來的實踐表明,帶入潔凈室或潔凈室產生的污染以及空氣中的NOX、SOX 、Na+、Cl-等,超細玻璃纖維制品中的硼和DOP粒子,操作人員自身產生的NH4+、Na+等,潔凈室建造材料散發的各種有機物、金屬離子等,生產過程使用溶劑、洗滌液散發的各種化學污染物等對生產過程都有很大的影響。為此,去除化學分子態污染物的空氣凈化裝置、技術措施以及相應的檢測手段正被廣泛應用。


          以微電子產品為代表的電子產品,其生產過程中廣泛應用了高精密制造設備,這使電子工業潔凈廠房的形式、構造和整體建造成本都發生了極大的變化。電子工業潔凈廠房采用多功能組合式建筑形式日益增多,電子產品生產工藝及其制造設備的集成化、過程控制自動化水平日益提高,安全設施日益完善,生產過程所需的作業人員大大減少,這些都提高了電子產品生產過程的穩定性和安全可靠性,為生產環境創造了良好的條件。


          電子產品不僅對生產環境的空氣潔凈程度有嚴格要求,而且還對與生產過程直接接觸的各種高純介質——高純水、高純氣體、高純化學品等的雜質含量等有十分嚴格的要求。某些電子產品對振動、靜電、電磁干擾、電力供應等也有較為嚴格的要求。為此,電子工業潔凈廠房一般配備下列設施,如凈化空調系統、專用凈化設備、噪聲控制設備、防微振設備、防靜電設備、防電磁干擾設備、電氣、照明、高純物質(高純水、高純氣、高純化學品)供應設備、報警系統、節能設施以及通信設施等。微電子產品的微細化,要求供應純度極高的氣體、化學品和純水。目前納米級集成電路芯片生產要求氣體中雜質的濃度要控制到19-9級或10-12級,要求超純水的電阻率為18MΩ·cm,雜質濃度為19-9級或10-12級。


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